آدرس: تهران - بزرگراه جناح - بلوار شهید گلاب - خیابان حسینی - کوچه رئیسی - پلاک ۷ - طبقه همکف
کد پستی: ۱۴۵۳۹۳۴۹۳۱
پیشرفت های گسترده ای در فناوری لایه های نازک روی داده است که در بخش های مختلف صنعت کاربرد گسترده ای دارد. تا به امروز روش های مختلفی برای ساخت لایه های نازک معرفی شده است که روش کندوپاش (Sputtering) یکی از انواع روش های لایه نشانی فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition – PVD) محسوب می شودکه لایه نشانی فیزیکی بخار نیز به نوبه خود جز روش های لایه نشانی در خلا است.
مانند سایر روش های لایه نشانی فیزیکی تحت شرایط خلا، روش کندوپاش نیز شامل (الف) تبخیر ماده منبع؛ (ب) انتقال بخار از منبع به زیرلایه و (ج) تشکیل لایه نازک روی زیرلایه با انباشت بخار منبع مورد نظر است. در روش کندوپاش، برای این که ماده منبع به فاز بخار خود منتقل شود، از بر هم کنش فیزیکی ذره هایی که به ماده منبع یا هدف (target) برخورد می کنند استفاده کرد. ماده هدف که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با بمباران و برخورد ذرات پر انرژی به سطح هدف، اتم ها یا مولکول های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می شوند و درمیدان ایجاد کننده پلاسما شتاب می‌گیرند. زیرلایه به ولتاژ مثبت متصل است و در واقع آند است و لایه ای از جنس هدف روی آن انباشت می شود.
این روش برای ایجاد پوشش و ساخت لایه های نازکی که کاربردهای مانند اپتیکی، ذخیره سازی مغناطیسی دارند، استفاده می شود.
در فرآیند کندوپاش، در اثر تخلیه الکتریکی و یونیزاسیون گازی که به داخل محفظه کندوپاش وارد شده است، یون های مثبت ایجاد می شوند، این یون ها به سطح هدف برخورد و با انتقال انرژی و تکانه به آن، اتم هایی را از سطح هدف جدا می کنند که هدف را با مقادیر مشخصی از انرژی ترک می کنند. سپس این اتم ها در محیط خلا به سمت زیرلایه حرکت کرده و بر روی آن جمع می-شوند و در نتیجه یک لایه نازک ایجاد می شود.
&p[summary]=<p>پیشرفت های گسترده ای در فناوری لایه های نازک روی داده است که در بخش های مختلف صنعت کاربرد گسترده ای دارد. تا به امروز روش های مختلفی برای ساخت لایه های نازک معرفی شده است که روش کندوپاش (Sputtering) یکی از انواع روش های لایه نشانی فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition – PVD) محسوب […]</p>
&p[url]=http://tamadkala.com/%D9%81%D8%B1%D8%A2%DB%8C%D9%86%D8%AF-sputtering/&p[images][0]=https://tamadkala.com/wp-content/uploads/2017/08/Sputtering-Process-Video.jpg)
شاید برای خیلی ها این سوال پیش آمده باشد که به چه موادی “نانو مواد” می گویند و اصلا “نانو” به چه معنی است؟ قصد داریم در مقاله پیش رو توضیحاتی در مورد فناوری نانو و نانومواد بدهیم. علم و فناوری نانو به دستکاری و تغییر مواد و باالتبع خواص آنها در ابعاد کوچک(نانو) گفته […]
کوره آزمایشگاهی چیست؟ کوره آزمایشگاهی (laboratory Furnace ) یکی از تجهیزاتی است که در آزمایشگاه ها کاملا کاربردی بوده و بسیار مورد استفاده قرار می گیرد و وسیله‌ای برای انجام انواع آزمایشگاه‌های عمومی و تخصصی به حساب می آید. این وسیله یک جزء جدانشدنی و ضروری در هر آزمایشگاه بوده که دارای اهمیت و کارایی […]
تیتراسیون کارل فیشر یک روش تیتراسیون است که از تیتراسیون حجمی یا کولومتریک برای تعیین مقدار آب موجود در آنالیت معین استفاده میکند. اصل تیتراسیون کارل فیشر بر اساس واکنش اکسیداسیون بین ید و دی اکسید گوگرد است. آب با ید و دی اکسید گوگرد واکنش می دهد و تری اکسید گوگرد و یدید هیدروژن […]
سدیم هیدروکسید، سود سوزآور یا کاستیک سودا (caustic soda) دارای فرمول شیمیایی NaOH است. این ماده جامدی سفید رنگ است که دارای دمای ذوب 1390 درجه سانتی گراد است. این ماده جاذب آب است و آب محیط اطراف خود را جذب میکند. به همین دلیل نیاز است که در نگهداری آن ملاحظات لازم انجام گیرد. […]
از ۲۴ لغایت ۳۱ تیر بمدت ۸ روز میتوانید ازتخفیف فوقالعاده ۱۵ درصدی تا سقف ۵۰۰ هزار تومان استفاده کنید.
