آدرس: تهران - بزرگراه جناح - بلوار شهید گلاب - خیابان حسینی - کوچه رئیسی - پلاک ۷ - طبقه همکف
کد پستی: ۱۴۵۳۹۳۴۹۳۱
پیشرفت های گسترده ای در فناوری لایه های نازک روی داده است که در بخش های مختلف صنعت کاربرد گسترده ای دارد. تا به امروز روش های مختلفی برای ساخت لایه های نازک معرفی شده است که روش کندوپاش (Sputtering) یکی از انواع روش های لایه نشانی فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition – PVD) محسوب می شودکه لایه نشانی فیزیکی بخار نیز به نوبه خود جز روش های لایه نشانی در خلا است.
مانند سایر روش های لایه نشانی فیزیکی تحت شرایط خلا، روش کندوپاش نیز شامل (الف) تبخیر ماده منبع؛ (ب) انتقال بخار از منبع به زیرلایه و (ج) تشکیل لایه نازک روی زیرلایه با انباشت بخار منبع مورد نظر است. در روش کندوپاش، برای این که ماده منبع به فاز بخار خود منتقل شود، از بر هم کنش فیزیکی ذره هایی که به ماده منبع یا هدف (target) برخورد می کنند استفاده کرد. ماده هدف که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با بمباران و برخورد ذرات پر انرژی به سطح هدف، اتم ها یا مولکول های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می شوند و درمیدان ایجاد کننده پلاسما شتاب میگیرند. زیرلایه به ولتاژ مثبت متصل است و در واقع آند است و لایه ای از جنس هدف روی آن انباشت می شود.
این روش برای ایجاد پوشش و ساخت لایه های نازکی که کاربردهای مانند اپتیکی، ذخیره سازی مغناطیسی دارند، استفاده می شود.
در فرآیند کندوپاش، در اثر تخلیه الکتریکی و یونیزاسیون گازی که به داخل محفظه کندوپاش وارد شده است، یون های مثبت ایجاد می شوند، این یون ها به سطح هدف برخورد و با انتقال انرژی و تکانه به آن، اتم هایی را از سطح هدف جدا می کنند که هدف را با مقادیر مشخصی از انرژی ترک می کنند. سپس این اتم ها در محیط خلا به سمت زیرلایه حرکت کرده و بر روی آن جمع می-شوند و در نتیجه یک لایه نازک ایجاد می شود.
&p[summary]=<p>پیشرفت های گسترده ای در فناوری لایه های نازک روی داده است که در بخش های مختلف صنعت کاربرد گسترده ای دارد. تا به امروز روش های مختلفی برای ساخت لایه های نازک معرفی شده است که روش کندوپاش (Sputtering) یکی از انواع روش های لایه نشانی فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition – PVD) محسوب […]</p>
&p[url]=http://tamadkala.com/%d9%81%d8%b1%d8%a2%db%8c%d9%86%d8%af-sputtering/&p[images][0]=https://tamadkala.com/wp-content/uploads/2025/05/Sputtering-Process-Video.jpg)
آمونیاک یک ترکیب شیمیایی معدنی از نیتروژن و هیدروژن با فرمول NH3 است. آمونیاک یک گاز بیرنگ با بوی مشخص تند است. از نظر زیستی، آن یک ماده زائد نیتروژنی معمول است و به نیازهای تغذیهای موجودات زمینی به عنوان پیشساز کودها کمک قابلتوجهی میکند. حدود 70% آمونیاک تولیدی صنعتی برای ساخت کودها در اشکال […]
برهمکنش پرتو الکترونی با ماده میکروسکوپهای الکترونی ابزاری مناسب و کارآمد برای کسب اطلاع از ساختار مواد در دنیای نانو هستند. آنها با توجه به ماهیت نور مرئی و اساس کار میکروسکوپهای نوری نسبت به این گونه میکروسکوپها ارجحیت دارند. همان طور که میدانید طول موج نور مرئی بین 400 تا 700 نانومتر است، در […]
جوهر نمک و وایتکس هر دو از تمیزکننده های مورد استفاده در منازل و صنعت می باشند اما تفاوت این دو ماده در چیست؟ جوهر نمک یا همان هیدروکلریک اسید با فرمول شیمیایی HCL یکی از مهم ترین حلال ها برای استفاده صنعتی و خانگی به شمار می رود. این اسید به علت خورندگی و […]
جوهر نمک اسیدی بسیار قوی و خورنده می باشد که در صنایع مختلف کاربردهای گوناگونی دارد. یکی از کاربردهای مهم این اسید که به هیدروکلردیک اسید یا اسید معده معروف است، تمیز کردن فلزات می باشد. این ترکیب اسیدی برای از بین بردن زنگ آهن و اکسیدهای فلزی انباشته شده بر روی فلزات به کار […]
